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三星的“良率困境”已成为其追赶台积电道路上的长期挑战。回顾其发展历程,三星在3纳米节点率先引入GAA技术时,良率就曾长期在低位徘徊,影响了其自研芯片的部署。如今在更先进的2纳米节点,尽管良率有所提升,但仍未达到主要客户量产的要求。与之形成鲜明对比的是,行业龙头台积电凭借其稳健的技术路线和深厚的制造经验,在2纳米工艺的良率爬坡上表现更为出色,据业内评估已接近80%,为其赢得了决定性的客户信任。
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